Ionautics HiPSTER 25 紧凑型高性能高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）脉冲电源
2025年6月，瑞典Ionautics公司宣布其全新研发的HiPSTER 25紧凑型高性能高功率脉冲磁控溅射（HiPIMS）脉冲电源成功完成首次运行。该电源提供高达25kW功率，采用碳化硅（SiC）晶体管技术，提升了能量效率与工艺稳定性。其双极HiPIMS技术无需基底偏压即可实现离子加速，简化工艺并提升镀膜质量与均匀性。设备集成丰富的工艺参数调整选项，脉冲频率可达150kHz，增强的脉冲控制功能可精准调节脉冲形状与能量分布。HiPSTER 25还集成了反应过程控制系统，实时监测调节镀膜化学反应，保障镀膜成分与结构精确性。其输出平均功率小于25KW，支持多种调节模式与通信方式，适用于单极、双极及脉冲模式直流。该设备广泛应用于扩散屏障、电气涂层制备，以及在航空航天、医疗器械和汽车制造等行业中对复杂三维结构的均匀镀膜，助力高端制造升级。
