HiPSTER 1

Ionautics开发了一种新型超高速HiPIMS电源，以满足未来HiPIMS工艺的需求。它是用于研发部门和学术界的1 kW HiPIMS装置，适用于尺寸达50 cm2或约3英寸圆形靶的磁控管。

HiPSTER 6

Ionautics开发了一种新型超高速HiPIMS电源，以满足未来HiPIMS工艺的需求。它是一个用于研发部门和学术界的6kW HiPIMS单元，适用于尺寸达500cm2或约10英寸圆形靶的磁控管。

HiPSTER 10

Ionautics开发了一种新型超高速HiPIMS电源，以满足未来HiPIMS工艺的需求。它是一个10 kW的HiPIMS装置，用于工业和研发部门，适用于尺寸达800 cm2的磁控管。

产品联系：185 021 93480，sales@gamtic.com

特征

全量程测试

在斯德哥尔摩皇家理工学院（KTH）测试了全系列磁控管和工艺，包括反应性HiPIMS。

稳定、稳健

稳定、稳健的放电过程–恒定电压，无不必要的振荡。

外部触发

外部触发，可通过主从配置进行控制——多个电源。

反应过程控制

反应式HiPIMS过程控制可根据要求实施。此功能允许：

过渡模式期间的稳定运行

保持化学计量组成的反应气体流的宽工艺窗口

应用

定制涂层

DLC涂层

ITO涂层

屏障涂层

硬质涂层

光学涂层

电气涂层

三维涂层

HiPSTER 6

Ionautics开发了一种新型超高速HiPIMS电源，以满足未来HiPIMS工艺的需求。它是一个用于研发部门和学术界的6kW HiPIMS单元，适用于尺寸达500cm2或约10英寸圆形靶的磁控管。

HiPSTER 10

Ionautics开发了一种新型超高速HiPIMS电源，以满足未来HiPIMS工艺的需求。它是一个10 kW的HiPIMS装置，用于工业和研发部门，适用于尺寸达800 cm2的磁控管。